Zirconium Sputtering Target

Zirconium Sputtering Target suppliers

Zirconium Sputtering Target factory

Zirconium Sputtering Target best

Zirconium Sputtering Target high quality

জিরকোনিয়াম স্পুটারিং টার্গেট

জিরকোনিয়াম স্পুটারিং লক্ষ্যগুলি সাধারণত অ্যাপ্লিকেশন, সরঞ্জামের সামঞ্জস্য এবং উত্পাদন প্রক্রিয়ার উপর নির্ভর করে বিভিন্ন আকারে আসে। নিম্নোক্ত প্রমিত এবং কাস্টমাইজড সাইজ রেঞ্জ পাওয়া যায়: বৃত্তাকার জিরকোনিয়াম টার্গেট (মূলধারার আকার) ব্যাস: 2 ইঞ্চি (50.8 মিমি) - ন্যূনতম সাধারণভাবে ব্যবহৃত মাপ, ছোট পরীক্ষামূলক সরঞ্জাম এবং নির্ভুল আবরণ সিস্টেমের জন্য উপযুক্ত 3 ইঞ্চি (76.2 মিমি) — সেমিকন্ডাক্টর এবং অপটিক্যাল আবরণে স্ট্যান্ডার্ড আকার, স্পারেটর নেট-এ ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়। (101.6 মিমি) — শিল্পের ব্যাপক উৎপাদনের জন্য মূলধারার আকার, কার্যক্ষমতার ভারসাম্য এবং খরচ6 ইঞ্চি (152.4 মিমি) — সাধারণত উচ্চ-থ্রুপুট উৎপাদনে ব্যবহৃত হয়, বড়{10}}এলাকার আবরণের প্রয়োজনের জন্য উপযুক্তφ200 মিমি – φ600 মিমি — সমর্থিত বৃহৎ শক্তির ক্ষেত্রে বিশেষভাবে ব্যবহৃত হয়, তাই বিশেষ শক্তির ক্ষেত্রে ব্যবহার করা হয়{13} এবং ডিসপ্লে প্যানেল। পুরুত্ব: 3 মিমি – 10 মিমি — সবচেয়ে সাধারণ বেধের পরিসর, উপাদানের ব্যবহারে ভারসাম্য বজায় রাখা এবং স্পটারিং অভিন্নতা। 12 মিমি – 40 মিমি — উচ্চ-শক্তি বা দীর্ঘ-লাইফ অ্যাপ্লিকেশনের জন্য, যেমন গবেষণা-গ্রেড বা ক্রমাগত টারস্যুলার প্রোডাকশন সিস্টেমের জন্য। 30 মিমি — ছোট আয়তক্ষেত্রাকার লক্ষ্যগুলি সাধারণত পরীক্ষাগার গবেষণায় ব্যবহৃত হয়। 200 মিমি × 50 মিমি থেকে 500 মিমি × 150 মিমি — শিল্প-গ্রেড প্ল্যানার লক্ষ্যবস্তু, বড় পিভিডি সরঞ্জামের জন্য উপযুক্ত। বেধ: সাধারণত 5 মিমি – 15 মিমি, সাব-ফর্মের সাব-ফর্ম অনুযায়ী সমন্বয় করা প্রয়োজন। অঙ্কন অনুযায়ী উপলব্ধ, সহ:অনিয়মিত কনট্যুর (রিং, উপবৃত্তাকার, পাখা-আকৃতির) বিশেষ বেধ (<2 mm ultra-thin targets or >50 মিমি পুরু লক্ষ্য) সারফেস ট্রিটমেন্ট (চকচকে ফিনিশ, অ্যাসিড-ওয়াশড ফিনিস, Ra1.6μm পালিশ)

অনুসন্ধান পাঠান

কোন তথ্য নেই

বিবরণ

পণ্যের নাম: জিরকোনিয়াম স্পুটারিং টার্গেট

উপাদান গ্রেড: Zr702 (ASTM B493 গ্রেড R60702)

বিশুদ্ধতা গ্রেড: 99.95% (3N5) ধাতু-ভিত্তিক (Hf-বিনামূল্যে)

মূল অ্যাপ্লিকেশন: উন্নত সেমিকন্ডাক্টর প্যাকেজিং, অপটিক্যাল আবরণ, সোলার সেল ব্যাক ইলেক্ট্রোড, মাইক্রোইলেক্ট্রনিক ইন্টারকানেক্ট লেয়ার (PVD প্রক্রিয়া)

ম্যানুফ্যাকচারিং স্ট্যান্ডার্ড: ASTM B493/B493M-14 (জিরকোনিয়াম এবং জিরকোনিয়াম অ্যালয় ফোরজিংসের স্পেসিফিকেশন) এবং SEMI M13-1102 (স্পটারিং টার্গেটের জন্য সাধারণ স্পেসিফিকেশন) মেনে চলে

জিরকোনিয়াম স্পুটারিং টার্গেটের তাত্ত্বিক ঘনত্ব হল 6.51 g/cm³, এর ঘনত্ব 99.0% এর চেয়ে বেশি বা সমান, এর তাপ পরিবাহিতা 22.6 W/m·K, এবং এর তাপ প্রসারণের সহগ (20–300 ডিগ্রি) 1.5.5. এই প্যারামিটারগুলি মান পরিমাপ করা হয় উচ্চ-বিশুদ্ধতা Zr702 লক্ষ্যমাত্রার জন্য মানক অ্যানিলেড অবস্থায়, উচ্চ{10}}শক্তির DC/RF ম্যাগনেট্রন স্পুটারিং অ্যাপ্লিকেশনের জন্য উপযুক্ত, এবং 99.9% বিশুদ্ধতা সামগ্রীর থেকে উচ্চতর তাপীয় স্থিতিশীলতা প্রদর্শন করে৷

পণ্যের পৃষ্ঠের গুণমান এবং মাইক্রোস্ট্রাকচারের প্রয়োজনীয়তা:

শস্যের আকার: 50 μm (গড়) এর কম বা সমান, EBSD (ইলেক্ট্রন ব্যাকস্ক্যাটার ডিফ্র্যাকশন) দ্বারা পরিমাপ করা হয়, শস্যের আকার বিতরণের একটি আদর্শ বিচ্যুতি 15 μm এর কম বা সমান।

পৃষ্ঠের রুক্ষতা (Ra): 0.8 μm এর কম বা সমান, একটি 3D অপটিক্যাল প্রোফাইলমিটার (ISO 4287) ব্যবহার করে পরিমাপ করা হয়, স্ক্র্যাচ, ইন্ডেন্টেশন এবং গর্তমুক্ত।

Cracks/Delamination: Not permitted. Measured using ultrasonic C-scan (ASTM E213), any crack >0.5 mm in length or delamination >1 মিমি² প্রত্যাখ্যান করা হয়েছে।

মাইক্রোস্ট্রাকচার: ইউনিফর্ম ইকুইক্সড -ফেজ গঠন। SEM (500× ম্যাগনিফিকেশন), ছিদ্রমুক্ত, অন্তর্ভুক্তি এবং পৃথকীকরণ।

সমস্ত লক্ষ্যগুলি হট আইসোস্ট্যাটিক প্রেসিং (HIP) দ্বারা ঘনীভূত হয় যাতে শস্যের সীমানা বন্ধন শক্তি 180 MPa এর চেয়ে বেশি বা সমান নিশ্চিত করা হয়, 500 ঘন্টার অবিচ্ছিন্ন স্পুটারিং এর চেয়ে বেশি বা সমান হওয়ার পরে কোনও ডিলামিনেশন ব্যর্থতার প্রয়োজনীয়তা পূরণ করে।

জিরকোনিয়াম স্পুটারিং টার্গেটের জন্য প্যাকেজিং এবং শিপিং স্পেসিফিকেশন (GHS এবং IEC কমপ্লায়েন্ট):

অভ্যন্তরীণ প্যাকেজিং: ভ্যাকুয়াম সিল করা (1×10⁻³ mbar এর কম বা সমান) + উচ্চ-বিশুদ্ধতা আর্গন (99.999%), ASTM F2095 এর সাথে সঙ্গতিপূর্ণ।

বাইরের প্যাকেজিং: ডাবল-স্তরযুক্ত আর্দ্রতা-প্রুফ অ্যালুমিনিয়াম ফয়েল ব্যাগ + ইপিই কুশনিং ফোম + কাঠের ক্রেট (ISPM-15 কমপ্লায়েন্ট), IEC 60068-2-78।

আর্দ্রতা সুরক্ষা লেবেল: আর্দ্রতা-প্রুফ + আর্দ্রতা সূচক কার্ড (5% RH এর কম বা সমান), IEC 60068-2-30 এর সাথে সামঞ্জস্যপূর্ণ।

MSDS/SDS: জিএইচএস 7ম সংশোধনের সাথে সঙ্গতিপূর্ণ, এতে Zr ধুলো বিস্ফোরণের ঝুঁকি (P201, P261, P304+340), OSHA 29 CFR 1910.1200 সহ 16টি স্ট্যান্ডার্ড বিভাগ রয়েছে। শিপিং লেবেল: UN 1399 (অ-দাহ্য কঠিন ধাতু) + ক্ষয়কারী পদার্থ।

প্রতিটি বাক্সে একটি ডেসিক্যান্ট প্যাকেট (সিলিকা জেল) এবং একটি আর্দ্রতা রেকর্ডার রয়েছে। পরিবহন জুড়ে তাপমাত্রা নিয়ন্ত্রণ: 5-30 ডিগ্রি, আপেক্ষিক আর্দ্রতা 40% এর কম বা সমান।

FAQ

প্রশ্ন: আপনি কি জিরকোনিয়াম স্পুটারিং টার্গেটের সাধারণ গ্রাহক কেস স্টাডি সরবরাহ করতে পারেন?

উত্তর: TSMC, Samsung Electronics, Intel, এবং SK Hynix সহ বিশ্বের শীর্ষ দশটি সেমিকন্ডাক্টর নির্মাতারা সকলেই জিরকোনিয়াম টার্গেটের পরোক্ষ ব্যবহারকারী। তাদের উন্নত প্রক্রিয়াগুলি (যেমন 5nm এর নীচের নোডগুলি) ব্যাপকভাবে Zr702 লক্ষ্যগুলিকে ধাতব বাধা স্তর, ইন্টারফেস প্যাসিভেশন স্তর, এবং আন্তঃসংযোগ কাঠামোর জন্য ব্যবহার করে, PVD সরঞ্জাম যেমন ফলিত উপকরণ Endura® এবং Lam Research Kiyo® ব্যবহার করে জমা করা হয়। জিরকোনিয়াম লক্ষ্যগুলি এইভাবে তাদের ভর উত্পাদন প্রক্রিয়াগুলিতে মূল কার্যকরী উপকরণ হিসাবে এমবেড করা হয়।

নেতৃস্থানীয় আন্তর্জাতিক ডিসপ্লে এবং ফটোভোলটাইক কোম্পানি, যেমন LG ডিসপ্লে, স্যামসাং ডিসপ্লে, এবং ফার্স্ট সোলার, OLED প্যানেল ইলেক্ট্রোড আবরণ এবং CIGS সোলার সেল ব্যাক ইলেক্ট্রোড উত্পাদনে উচ্চ-বিশুদ্ধতার জিরকোনিয়াম লক্ষ্যমাত্রা ব্যবহার করে কম-প্রতিরোধ, উচ্চ-স্থায়িত্ব, ধাতু পাতলা ফিল্মের চাহিদা মেটাতে{3} উচ্চ-অভিন্ন উৎপাদন।

লকহিড মার্টিন, বোয়িং এবং নর্থরপ গ্রুম্যান সহ মহাকাশ এবং প্রতিরক্ষা উচ্চ-উৎপাদনকারী সংস্থাগুলি, ইঞ্জিনের উপাদান, তাপ সুরক্ষা ব্যবস্থা এবং রাডার স্ট্রাকচারে প্রয়োগ করা উচ্চ-তাপমাত্রা, ক্ষয়-প্রতিরোধী আবরণের PVD জমার জন্য জিরকোনিয়াম লক্ষ্যমাত্রা ব্যবহার করে৷ তাদের সংগ্রহের মানগুলি কঠোর, AS9100D সার্টিফিকেশন এবং ব্যাচ COA ট্রেসেবিলিটির সাথে সম্মতি প্রয়োজন৷

প্রশ্ন: আপনি কি ব্যাঙ্ক লেটার অফ ক্রেডিট গ্রহণ করেন?

উত্তর: হ্যাঁ, আমরা ক্রেডিট লেটার অব ক্রেডিট (L/C) ক্রয়ের জন্য অর্থপ্রদানের পদ্ধতি হিসেবে গ্রহণ করি। অনুগ্রহ করে যোগাযোগে থাকুন।

প্রশ্ন: জিরকোনিয়াম স্পুটারিং লক্ষ্যগুলি কি সাধারণত ISO 9001, IATF 16949, এবং AS9100 দ্বারা প্রত্যয়িত?

উত্তর: হ্যাঁ, জিরকোনিয়াম স্পুটারিং টার্গেটের ক্ষেত্রে শিল্প এবং উচ্চ{0}}অ্যাপ্লিকেশানগুলির ক্ষেত্রে, ISO 9001, IATF 16949, এবং AS9100D সার্টিফিকেশনগুলি সর্বজনীন এবং বাধ্যতামূলক প্রবেশ মান হয়ে উঠেছে৷

গরম ট্যাগ: zirconium sputtering লক্ষ্য, চীন zirconium sputtering লক্ষ্য নির্মাতারা, সরবরাহকারী, কারখানা